通过灵活应用蒸发镀膜和溅射镀膜发法，我们可以选取最佳的镀膜材料和方法来达到客户的特殊要求。

RF离子源是目前能量最强的离子源。在蒸发镀膜过程中通过应用RF离子源辅助沉积，所镀膜层的微观结构会更加紧凑，从而保证膜层曲线的零漂移，这对于超窄滤光片的加工尤为重要。

无油真空系统可以避免真空油脂对基材表面和膜层的污染，从而明显改善膜层的牢固度和膜层吸收，这对于紫外镀膜尤为重要。

基于Ф1900mm真空室的镀膜机，我们可以镀制最大Ф1600 mm的基片。这种大基片广泛应用于航天和天文观测领域。